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應(yīng)用領(lǐng)域
Wet Bench 半自動機型
時間:2025.05.12

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前后運行式全罩防護(hù)密封空間,1個化學(xué)槽搭配1個QDR水槽為一個工藝模塊,依照工藝需求或潔凈室場地空間要求,可客制化實現(xiàn)多模塊功能設(shè)備全自動化運行,上貨后選擇好制程配方,設(shè)備自動運行,結(jié)束后報警提示,人員取走貨物

制程參數(shù)設(shè)置自由度高,可根據(jù)產(chǎn)品型號自由調(diào)整設(shè)備運行參數(shù)

控溫精度±1℃

全自動混酸配液系統(tǒng),可根據(jù)產(chǎn)品型號自由調(diào)整參數(shù)比例,

依客戶需求定制濃度監(jiān)測等功能,根據(jù)設(shè)定值自動補液

自動補液系統(tǒng):可根據(jù)產(chǎn)品批次、換液時間等進(jìn)行補液,補液精度最小量0.1ml

顆粒控制:最高0.2μm≤20顆


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    2025.05.12
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